KLA Candela® 8420表面缺陷检测系统可以检测不透明、半透明和透明晶圆（包括玻璃、单面抛光蓝宝石、双面抛光蓝宝石）的表面缺陷和微粒；滑移线；砷化镓和磷化铟的凹坑和凸起；表面haze map；以及钽酸锂、铌酸锂和其他先进材料的缺陷。KLA Candela® 8420表面缺陷检测系统用于化合物半导体工艺控制（晶圆清洁、外延前后）。其先进的多通道设计提供了比单通道技术更高的灵敏度。CS20R配置的光学器件经过优化，可用于检测化合物半导体材料，包括光敏薄膜。
功能
检测直径达200毫米不透明、半透明和透明化合物半导体材料上的缺陷
手动模式支持扫描不规则晶圆
支持各种晶圆厚度
适用于微粒、划痕、凹坑、凸起和沾污等宏观缺陷
衬底质量控制
衬底供应商对比
入厂晶圆质量控制(IQC)
出厂晶圆质量控制(OQC)
CMP（化学机械抛光工艺）/抛光工艺控制
晶圆清洁工艺控制
外延工艺控制
衬底与外延缺陷关联
外延反应器供应商的对比
工艺机台监控
行业
包括垂直腔面发射激光器在内的光子学
LED
通信（5G、激光雷达、传感器）
其他化合物半导体器件
选项
SECS-GEM
信号灯塔
金刚石划线
校准标准
离线软件
光学字符识别(OCR)
CS20R配置用于检测光敏薄膜
上一篇： KLA Zeta™-388光学轮廓仪
下一篇： KLA Candela® 8520表面缺陷检测系
KLA Candela® 8420表面缺陷检测系统它使用多通
KLA Candela® 7100系列缺陷检测和分类
KLA Candela® 6300系列光学表面分析仪
